EBARA실업, 한국기업과 반도체분야 i용 「초순수 전해시스템」 공동개발

해외과학 기술 동향

2005-07-15

EBARA실업(http://www.ejk.co.jp)은 한국의 전해장치관련기업과 공동으로, 세계 처음으로 「초순수 전해시스템」을 개발했다. 이 시스템은 초순수수를 직접 전기분해함으로써 pH 9.5~5.0의 범위에서 임의로 설정할 수 있는 「초순수 전해수」를 제조할 수 있다. EBARA실업은 앞으로 반도체분야를 중심으로 새로 개발한 시스템을 판매할 계획이다.

(1) 개발 배경
현재 반도체 제조프로세스에서 세정으로는 RCA 세정(약품세정+초순수에 의한 세정)이 주류이지만, 환경부하의 관점에서 약품사용량의 저감에 의한 세정능력의 저하, 약품에 의한 회로의 에칭프로세스의 손상, 포토마스크에서는 투과성악화 등의 영향으로 약품을 사용하지 않는 새로운 세정방법이 요구되고 있다.

이것에 대응한 종래형의 전해수 제조시스템으로는 1) 공급수에 다량의 전해질이 함유되어 있는 수돗물이나 우물물을 직접 전기분해하는 방법, 2) 공급수에 전해질을 주입하는 방법, 3) 전해조 중간 실내에 전해액을 순환시켜 전해액의 양·음이온을 이온교환막으로 순수 쪽으로 이동시키는 방법 등이 있지만, 어떤 방법으로도 생성된 전해수는 초순수·순수가 아니라 전해질이온을 포함한 전해수이므로, 초순수·순수로 세정할 필요가 있다. 또 초순수·순수를 직접 전기분해해도 산화환원전위는 다소의 변화를 보이지만 pH의 커다란 변화가 없으므로, 전해수에 각종 가스를 주입하여 pH를 제어하여 기능수로서 이용하고 있는 것이 현실이다.

이번에 EBARA실업 및 한국의 전해장치관련기업이 공동으로 개발한 「초순수 전해시스템」은 초순수를 직접 전기분해함으로써 pH9.5·산화환원전위 -600mV 이하부터 pH5.0·산화환원전위 +800mV 이상의 범위 내에서 임의로 설정(최소한의 화학약품 주입으로 더욱 넓은 범위의 pH 설정이 가능)할 수 있는 초순수 전해수를 생성할 수 있다. 이에 의해 생성된 전해수는 초순수의 세정효과와 전해수의 세정효과를 함께 낼 수 있으며, 반도체 제조프로세스에서 필요한 제품의 주입 등이 필요하지 않으므로 세정공정이 절감될 수 있다.

(2) 초순수 전해시스템의 특징
- 초순수의 전해에 의한 생성물(초순수전해수)은 전해질을 포함하지 않는다. 초순수 전해수는, pH9.5·산화환원전위 -600mV 이하부터 pH5.0·산화환원전위 +800mV 이상의 범위 내에서 임의로 설정 가능(최소의 화학약품 주입에 의해, 더욱 넓은 범위의 pH 설정이 가능하므로, RCA 세정의 SC-1/SC-2 이상의 세정력이 얻어진다).
- 초순수 전해수는 에칭하지 않으므로 회로 손상이 없다.

(3) 초순수 전해시스템의 세정 범위
- 유기물
- 금속류
- 미립자
- 황산이온 
- 실리카 슬러지

(4) 반도체 제조프로세스에서의 세정 대상
- Photo Mask 세정
- 웨이퍼 표면 세정
- 반도체제조 시 세정
- LCD·광학렌즈 세정

키워드 : 초순수 전해시스템

출처: KISTI 미리안 글로벌동향브리핑

원문: http://release.nikkei.co.jp/detail.cfm?relID=105514&lindID=4